初學者能於三分鐘內完成所有設定，5-10分鐘左右即可得到一張可放置於paper上的高解析圖像，

 

眾多一級研究單位指定認可使用。
 

四大特點:

 

1. 效能卓越、穩定性高，媲美百萬級進口品牌

 

2. 高防震性能，且無需額外購置光學防震桌，任何時間、地點皆可測試

 

3. 操作極便利，快速上機操作，無需專人維護操作

 

4.  價格極親民，較無負擔擁有

 

5. 另可擴充液態模組、氣氛及控溫模組

目的:
提供三維表面形態影像，包括表面粗糙度、粒徑大小、高度差和間距

 

優點		應用領域
1. 可定量表面形貌特徵(粗糙度、長寬高) 2. 非破壞檢測方式 3. 高空間解析度 4. 導體或絕緣體皆可成像 5. 一般大氣環境即可量測 6. 高度(厚度)量測精準度高		1.  航太工業 2.  生物醫學/生物技術 3.  化合物半導體 4.  資料存儲 5.  顯示器	6.  電子領域 7.  太陽能 8.  高分子聚合物 9. 半導體 10. 光電行業

 

應用案例：

1. 評估晶片處理前後的差異(SiO2, GaAs, SiGe等)

2. 確定生物醫學設備的處理效果(例如電漿處理)，如隱形眼鏡、導管和塗層支架

3. 檢查表面粗糙度對附著力的影響

4. 評估圖案晶圓的溝槽形狀與清潔度

 

分析項目:

1. 鍍膜分析: 粗糙度分析、膜厚分析、孔洞大小分析

2. 奈米材料分析: 粒徑分析、分散性分析

3. 可將表面結構轉換成3D 影像，更能了快速解材料結構形貌。

4. 材料表面彈性分佈、摩擦力分佈、電荷分佈、磁區分佈分析等。

 

實際測試結果 

石墨烯(Graphene)與石墨台階

 

技術規格

​標準工作模式：Contact mode(接觸模式)，Tapping mode(輕敲/半接觸模式)

選配模式：LFM mode 摩擦/側向力，Phase mode 振幅/相位，MFM mode 磁力和 EFM mode 靜電力分布量測

配件選擇 : 液態模組、控溫模組、通氣氛模組

樣品尺寸：Φ≤90mm，H≤20mm

掃描範圍：XY至20um，Z至2um（另可選配或加購 XY至10um、50um或100um，Z至1um、5um或10um 之掃描器）

掃描解析度：XY至0.2nm，Z至0.05nm

樣品移動範圍：0〜13mm

光學倍率4X，光學解析度2.5um

掃描速度: 0.6Hz〜4.34Hz，掃描角度0〜360°

掃描控制：XY使用18位元D / A，Z使用16位元D / A

附高效能懸吊防震系統

附防潮、隔音箱體