NanoScribe QuantumX 雙光子奈米級 3D 列印系統

 

產品型號：QuantumX

產品分類：半導體封裝與組裝設備

廠商名稱：上儀股份有限公司

攤位號碼：L327

 

產品特色

 

NanoScribe QuantumX 是專為超高精度 3D 製造設計的 雙光子奈米級 3D 列印系統，採用 專利 2PP (雙光子聚合)、2PGL (雙光子灰階列印) 及 A2PL (適應性雙光子列印) 技術，可實現 納米級解析度 與卓越的 3D 結構可控性。其高穩定性的光學與運動控制系統，使其成為 微光學、微流體、生醫工程、矽光子、PWB (印刷佈線板) 及量子技術 等領域的理想選擇。

主要特點

專利 2PP / 2PGL / A2PL 技術：突破性雙光子 3D 列印能力
超高解析度：最小特徵尺寸 <100 nm，線寬 <200 nm
高速列印：掃描速度最高可達 200 mm/s
大範圍加工：最大可列印區域達 50 × 50 mm²
多材料兼容：適用各類感光聚合物與混合材料
高精度對位：內建對準機制，可與 MEMS、微光學、矽光子及晶片集成
自動化流程：支援 CAD 導入與自動對焦，提高製造效率
QuantumX 提供卓越的 3D 奈米級列印能力，適用於從科學研究到產業應用的廣泛場景，助力突破 精密光學、生醫微結構、微流道、矽光子與 PWB 微製造技術 的瓶頸。

 

相關產品

 

• 

  LaVision 微流道與熱成型形變分析系統

• 

  NKT Photonics-三波段工業飛秒雷射-ORIGAMI XP

• 

  SuperbIN上儀 FAMous雷射微加工設備

• 

  OPTEC- LLO全自動雷射離型機

 

 

 

回列表