活化反應濺鍍鍍膜機

 

產品分類：電子生產製造設備

廠商名稱：大永真空設備股份有限公司

攤位號碼：N328

 

產品特色

 

大永真空除蒸鍍光學領域外，更開發出自有的活化反應濺鍍法設備，以此將濺鍍製程之特性導入光學領域。活化反應濺鍍法設備透過分離濺鍍與反應性氣體間交互作用，可有效改善反應性濺鍍製程因靶毒化而造成的二個主要缺點：

低鍍率。
靶面放電破壞膜質。
活化反應濺鍍法具有靶材區與電漿源區，此電漿源區亦可稱為耦合電漿區。製程中於靶材區通入惰性氣體，於電漿區通入混和之反應性氣體，降低靶材於濺鍍過程所受反應性氣體的影響，製程具有高穩定性，並仍保有濺鍍製程之高薄膜品質與大面積高均勻性等優勢。

又因濺鍍製程具有較高的分子動能及較好的階梯覆蓋率，一定程度克服了非平面的基材限制，讓具有曲面的基材也可製備出均勻的光學薄膜，此特性極適合運用於自駕車產業之車載鏡頭。

大永真空將此濺鍍製程導入光學鍍膜設備，一方面引進濺鍍的優點，並有效改善反應性濺鍍的缺點，進一步賦予設備「高鍍率」、「高膜質」、「高穩定性」的性能。

 

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