研究級PVD設備

 

產品分類：PLP面板級封裝設備/材料

廠商名稱：AREESYS

攤位號碼：M301

 

產品特色

 

1. 整合型薄膜沉積技術： 支援脈衝雷射沉積 (PLD)、磁控濺鍍 (Magnetron Sputtering) 及電子束蒸發 (E-Beam Evaporation) 系統。
2. 多功能樣品加熱與冷卻模組： 樣品台整合電阻加熱、輻射加熱與液態氮 (LN2) 冷卻技術，並支援惰性氣體或氧氣之製程環境。
3. 高維護效率設計： 搭載快速上料門 (Fast Entry) 與防污染屏蔽 (Anti-fouling Shields) 設計，大幅簡化維護程序。
4. 全自動製程控制： 鍍膜全製程實現自動化邏輯控制。
5. 高自由度精密樣品台： 支援旋轉、升降、平移及傾斜功能；可選配進樣室 (Load-lock) 或整合至手套箱，並能與 PLD、磁控濺鍍、熱蒸發或離子束輔助沉積 (IBAD) 系統無縫串聯。
6. 超高真空 (UHV) 兼容： 系統設計符合超高真空環境需求。
7. 全方位科研解決方案： 靈活配置，滿足各種前沿實驗需求。

 

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